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碳化硅涂层
来源: | 作者:travel-100 | 发布时间: 2022-03-18 | 892 次浏览 | 分享到:
碳化硅涂层是指采用物理或化学气相沉积、喷涂等方法在零件表面制备SIC涂层的方法。

碳化硅涂层

碳化硅涂层是指采用物理或化学气相沉积、喷涂等方法在零件表面制备SIC涂层的方法。

制备涂层的原因

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SiC具有优异的物理化学性能,如高熔点、高硬度、耐腐蚀、抗氧化等,特别是在1800-2000℃范围,具有良好的抗烧蚀性能,因此,在航空航天、兵器装备等领域具有广阔的应用前景。但SiC本身不能作为结构材料使用,所以通常采用制备涂层的方法,以利用其耐磨性以及抗烧蚀性。

制备涂层的常见方法

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1、化学气相沉积CVD [1] 

将需制备SiC涂层的试样放入反应管中,以MTS为先驱体原料,在950-1300℃、负压条件下沉积SiC涂层在试样表面。

2、先驱体转化法PIP [2] 

将试样进行预处理后,放入浸渍罐中,对浸渍罐抽真空,再注入浸渍溶液,加压浸渍,减压取出试样。在炉中进行裂解,炉冷至室温取出,即可在试样表面实现SiC涂层。这里的浸渍溶液是陶瓷先驱体为主要成分的溶液。


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